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来源:本站 更新时间:2010-12-16 点击数:2741
突破技术藩篱 台湾加入NAND Flash战局
台湾长久缺席的快闪存储器产业终于出现曙光,由于既有NANDFlash技术在20纳米制程以下面临天险,全球大厂纷竞逐下世代技术,近期国家纳米元件实验室(NDL)成功在R-RAM(ResistiveRandom-AccessMemory)技术架构下,研发出全球最小的9纳米电阻式存储器,计划在2011年下半正式成立“16-8纳米元件联盟”,将广邀存储器厂及晶圆代工厂加入,首波会先洽谈台系存储器厂,目标5~10年内将此技术导入量产,让台湾正式加入NANDFlash产业战局。
NANDFlash技术在20纳米制程以前,台湾存储器业者完全没有参与权,因为相关技术和专利都被国际大厂所掌控,但在20纳米制程以下,传统浮动闸(FloatingGate)技术出现天险,面临储存电子数越来越少问题,NANDFlash技术出现大变革,各种下世代存储器陆续问世。目前新世代存储器技术架构包括PRAM(PhaseChangeRAM)、MRAM(MagneticRAM)、R-RAM等,暂无法确定谁能胜出,存储器龙头厂三星电子(SamsungElectronics)由于资源庞大,几乎各种技术都投入研发。
这次NDL完成全球最小的9纳米存储器,系采用R-RAM技术为架构,已于12月在美国旧金山所举行国际电子元件会议(IEDM)正式发表,NDL在实验室成立1条产线做研发,未来希望能再建1条产线,最终目标是希望将这个9纳米产品导入12寸或18寸晶圆厂,作为量产产品。另外,目前布局R-RAM技术业者还包括英特尔(Intel)、新帝(SanDisk)、三星、IBM等。
NDL计划成立“16-8纳米元件联盟”,作为NANDFlash技术平台,并成为台厂未来发展新世代NANDFlash技术的专利后盾,此联盟预计2011年下半正式成立,将广邀存储器厂和晶圆代工厂加入,首波邀请对象为存储器业者,包括旺宏、华邦、力晶、瑞晶、南亚科、华亚科、茂德等。
由于考量到联盟组织最后易沦为口号,且大部分业者不愿将最顶尖技术贡献到台面上,因此,未来此联盟将设计多种模式,鼓励业者及各方研究菁英加入,象是缴交权利金换取专利使用权、技术合作等,未来目标是仿效IBM华生研究中心(ThomasJ.WatsonResearchCenter),专门培育半导体人才。
NDL强调,学界主要专注于研发和布局累积专利数量,未来要导入量产仍是要靠业界,目前9纳米产品雏形已具备,但要导入8寸或12寸晶圆厂才是挑战开始,目标是希望5~10年内可进入量产,让台湾正式加入NANDFlash产业战局。
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